Fàinne grian-chlach leth-sheoltaiche

Aig Semixlab, tha sinn gu sònraichte a’ leasachadh agus a’ dèanamh phàirtean grian-chloiche àrd-ghlan a chaidh a dhealbhadh airson àrainneachdan giullachd leth-chonnsachaidh an ath ghinealaich. Nam measg sin, tha pàirt chudromach aig Cearcall Grian-chloiche Àrd-ghlan Semixlab thar iomadh ceum saothrachaidh wafer aghaidh, far a bheil cruinneas tomhasach, glanadh ceimigeach, agus seasmhachd teirmeach a’ toirt buaidh dhìreach air coileanadh pròiseas agus toradh innealan.

Ann an siostaman tasgadh smùid ceimigeach (CVD)—a’ gabhail a-steach LPCVD, PECVD, agus reactaran epitaxy SiC no Si aig teòthachd àrd—tha fàinne a’ chuartais a’ frithealadh mar eadar-aghaidh structarail is gnìomhach eadar an glacadair agus an seòmar ath-bhualadh. ’S e a phrìomh dhleastanas sruthan gas ath-ghnìomhach a sgaradh, tasgadh dìosganach air ballachan an t-seòmair a lughdachadh, agus pròifil teirmeach timcheall air a’ chnap-starra a dhèanamh seasmhach. Tha cunbhalachd teirmeach air leth cuartais snasta mionaideach Semixlab a’ dèanamh cinnteach à tiughas film cunbhalach agus càileachd uachdar nas fheàrr air feadh a’ chnap-starra. Faodar follaiseachd optigeach agus faileasachd infridhearg an stuth a dhealbhadh cuideachd gus èifeachdas teasachaidh a leasachadh agus ìrean teòthachd a lughdachadh taobh a-staigh sòn an tasgaidh.

Ann am pròiseasan gràbhaladh plasma (Gràbhaladh Tioram), bidh fàinne a’ chuartais ag obair mar bhacadh dìon an aghaidh bleith plasma agus bomadh ian, a’ dìon uachdar meatailteach an t-seòmair bho thruailleadh agus gineadh mìrean. Bidh ar cuartais shintéiseach àrd-dùmhlachd, air a dhèanamh fo shònrachaidhean neo-ghlainead a tha fo smachd teann (<1 ppm truailleadh meatailteach), a’ cumail suas ionracas tomhasach eadhon fo nochdadh fada do phlasma ionnsaigheach stèidhichte air fluorine agus clòirin. Bidh seo a’ leudachadh fad-beatha phàirtean an t-seòmair gu mòr agus a’ cuideachadh le bhith a’ cumail suas sgaoileadh plasma seasmhach, paramadair deatamach airson cunbhalachd gràbhaladh agus smachd CD (tomhas èiginneach).

Taobh a-staigh àmhainnean ocsaididh is sgaoilidh, bidh fàinneachan grian-chlach Semixlab ag obair mar eileamaidean co-thaobhadh is inslitheachd mionaideach a tha a’ toirt taic do bhàtaichean wafer agus a’ mìneachadh slighe sruthadh gas a’ phròiseis. Bidh an co-èifeachd leudachaidh teirmeach ìosal aca a’ lughdachadh cuideam rè ath-chuairteachadh teirmeach aig teòthachdan os cionn 1000 °C. Is e an toradh ath-aithris pròiseas nas fheàrr, lùghdachadh ann an easbhaidhean, agus lùghdachadh ann an cunnart truailleadh mìrean ann an ceumannan ocsaididh no sgaoilidh dopant aig teòthachd àrd.

Airson pròiseasan fàis epitaxial, gu h-àraidh ann an epitaxy SiC, bidh fàinne a’ chrios-ghrian a’ cur ri cunbhalachd teòthachd agus dealachadh ceimigeach. Suidhichte timcheall air an neach-gabhail còmhdaichte le grafait no SiC, bidh e ag obair mar phàirt meòrachail agus cuibhreachaidh, a’ cruthachadh sreath crìche a’ ghasa agus a’ leasachadh cunbhalachd dopant agus tighead thar uachdar a’ chrios-ghrian. Leigidh an cothlamadh de dh’ aghaidh teirmeach àrd, neo-ghnìomhachd cheimigeach, agus seasmhachd optigeach le fàinnean crios-ghrian Semixlab coileanadh a chumail suas eadhon aig teòthachdan a’ tighinn faisg air 1600 °C ann an àilean beairteach ann an haidridean.

Tro dheicheadan de eòlas saidheans stuthan agus saothrachadh mionaideach, tha Fàinnean Cuartz Àrd-ghlanachd Semixlab air a bhith nan roghainn earbsach dha luchd-saothrachaidh leth-chonnsachaidh cruinneil agus OEMan uidheamachd a tha a’ sireadh earbsachd, purrachd agus seasmhachd pròiseas nas fheàrr. Tha gach pàirt air a dhealbhadh a rèir inbhean SEMI, air a dhearbhadh tro mhion-sgrùdadh eileamaideach ICP-MS, agus air a phròiseasadh ann an àrainneachdan saothrachaidh glan le teisteanas ISO. Tha na feartan seo a’ dèanamh cinnteach gu bheil fàinnean cuartz Semixlab a’ lìbhrigeadh coileanadh cunbhalach, a’ lughdachadh ùine downt, agus a’ cuideachadh luchd-ceannach gus smachd pròiseas nas teinne agus toradh innealan nas àirde fhaighinn ann an saothrachadh leth-chonnsachaidh adhartach.